日蘭科学技術関係者ネットワーキングレセプション（2025年11月10日）

　11月10日、在オランダ日本国大使館において「日蘭科学技術関係者ネットワーキングレセプション」を開催しました。

　本年は、日蘭交流425周年という節目の年にあたり、両国の長年にわたる友好と協力の歴史を振り返るとともに、今後の科学技術分野における連携の深化を図る機会となりました。本レセプションには、松本洋一郎外務大臣科学技術顧問、フェイテ・ホフマン教育・文化・科学省（OCW）総局長をはじめ、両国の政府機関、研究機関、大学、企業、エコシステム推進機関、メディア等から多くの関係者が出席しました。

　南大使は開会挨拶で、日オランダ両国が長い歴史の中で培ってきた信頼関係と、科学技術分野における協力の重要性について述べました。かつて日本が「蘭学」を通じてオランダから多くを学んだことを振り返り、現在は半導体、量子技術、フォトニクスなど、より多様で先端的な分野に協力が広がっていることに触れ、今後も両国の連携が一層発展していくことへの期待を表明しました。

　続いて、松本顧問は、変化する国際情勢の中で科学技術が経済安全保障や外交にも深く関わることを指摘し、「Trusted Openness（開かれた信頼）」の理念のもとで国際協力を進める重要性を述べました。また、日本とオランダは、持続可能なエネルギー開発、半導体製造や高齢化社会への対応など多くの共通課題を抱えており、両国の連携がこれらの課題の解決と国際社会への貢献につながるとの考えを示しました。

　最後に、ホフマン総局長は、10月の訪日に際して参加したSTSフォーラムや大阪・関西万博での経験を振り返り、両国は大きな海で隔てられていながらも、実際には驚くほど円滑に協力できていることを実感し、その背景には共通の価値観があると述べました。あわせて、日蘭科学技術協力協定（1996年署名、1997年発効）の締結30周年を控え、今後の協力が一層発展していくことへの期待を表明しました。

　当日は、活発なネットワーキングが行われ、参加者間で新たな連携の芽が育まれました。在オランダ日本国大使館は今後も、日オランダ両国が科学技術・イノベーション分野において戦略的かつ互恵的なパートナーシップを一層深化させ、国際社会の課題解決に共に貢献できるよう取り組んでまいります。